不同類型真空鍍膜對溫度控制冷水的要求

真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶,。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光,，所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮，果如真空度不高結(jié)晶體就會失去光澤結(jié)合力也很差,。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射,，結(jié)合差工效低光澤差?，F(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材,，濺射出大量的靶材原子,，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種,，如鍍鈦鍍鋯等等,。

中頻設(shè)備必須加冷卻水，原因是它的頻率高電流大,。電流在導(dǎo)體流動時(shí)有一個(gè)集膚效應(yīng),，電荷會聚集在電導(dǎo)有表面積，這樣使電導(dǎo)發(fā)熱所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻,。

（主要是圓柱靶）為什么也要用水冷卻,？磁控濺射靶在發(fā)射時(shí)會產(chǎn)生高溫會使射槍變形，所以它有一個(gè)水套來冷卻射槍,。同時(shí)還有一個(gè)重要原因磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中最突出的成就之一。它以濺射率高,、基片溫升低,、膜-基結(jié)合力好。

從更深層次研究電子在非均勻電磁場中的運(yùn)動規(guī)律 ,探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場的橫向不均勻性及對稱性是磁約束的本質(zhì)原因,。磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中最突出的成就之一,。它以濺射率高、基片溫升低,、膜-基結(jié)合力好,、裝置性能穩(wěn)定。

另外根據(jù)鍍膜機(jī)種類和加工產(chǎn)品不一樣,，對冷水的要求也會不一樣,，普通材料蒸發(fā)選用冷卻水塔水溫在30℃左右的就可以使用,，如果涉及硬質(zhì)件件溫度會要求在15-25℃。就必須要使用上冷水機(jī)這一塊

還有一種情況低溫冷阱的應(yīng)用是在輔助抽氣系統(tǒng)真空鍍膜的排氣系統(tǒng)采用的是由擴(kuò)散泵,、機(jī)械泵,、羅茨泵、低溫冷阱,、等部分組成低溫冷阱也是不可或缺的一部分

1,、如果鍍膜機(jī)用的是擴(kuò)散泵的話，一般泵口回加一套冷阱,，用于捕捉油分子,。這種制冷不需要加熱回溫，可以用一般的冷凍機(jī)（-20°左右）或者深冷（-140°左右）,。

2,、如果鍍膜機(jī)想提高抽速的話，一般要加帶回溫裝置的深冷,，,。抽氣時(shí)制冷，箱體放氣前回溫,。

3,、還有一種情況卷繞鍍膜，薄膜鍍鋁的時(shí)候要制冷,，到-15°左右,，放氣前要回溫到室溫。

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